সিলিকন ডাই অক্সাইড স্লারি অতিস্বনক দীর্ঘ নল গভীর BCT স্প্রে

সিলিকন ডাই অক্সাইড স্লারি অতিস্বনক দীর্ঘ নল গভীর BCT স্প্রে

বর্ণনাঃ

সিলিকা স্লারির গভীর বিসিটি স্প্রে করার জন্য বিভিন্ন নল কনফিগারেশন রয়েছে, যা বিসিটি বা সিরিঞ্জ ব্যারেলের ব্যাস এবং দৈর্ঘ্যের অনুযায়ী কাস্টমাইজ করা যেতে পারে।একটি সাধারণ অ্যাপ্লিকেশন হল কোগুলেশন ত্বরান্বিত করার জন্য একটি সিলিকা লেপ স্প্রে করা, এবং সিলিকা স্লারি একটি অতিস্বনক নল মাধ্যমে পাইপ প্রাচীরের উপর স্প্রে করা হয় সিলিকা কণার একটি অভিন্ন পাতলা ফিল্ম গঠন করতে।

সিলিকন ডাই অক্সাইড স্লারি অতিস্বনক দীর্ঘ নল গভীর BCT স্প্রে নল উপর অতিস্বনক তরঙ্গ উচ্চ ফ্রিকোয়েন্সি কম্পন মাধ্যমে যে কোন সিলিকন ডাই অক্সাইড agglomerates বিভাজন করতে পারেন,পাইপ প্রাচীরের লেপ সমানভাবে বিতরণ করা যায় তা নিশ্চিত করাএকই সময়ে, লেপ এলাকার প্রয়োজনীয়তা অনুযায়ী, লেপ অবস্থানের আরও সঠিকভাবে নিয়ন্ত্রণ করার জন্য স্থানীয় স্প্রে করা যেতে পারে।

পরামিতিঃ

সাধারণ কনফিগারেশনঃ

1. ভিস্কোসিটি এবং কঠিন বিষয়বস্তুঃ সাধারণত, ভিস্কোসিটি ≤ 30cps হয় এবং স্থিরতার জন্য 20-30% এর বেশি কঠিন বিষয়বস্তু প্রয়োজন হয় না
2তরল সরবরাহের সরঞ্জামঃ সুনির্দিষ্ট ইনজেকশন পাম্প + জৈবিক গ্রেড নমুনা, তরল সরবরাহের নির্ভুলতা 0.1uL / মিনিট
3শুকনো ফিল্মের বেধঃ 20nm-100um (সলিউশনের সাবস্ট্র্যাটের সাথে সম্পর্কিত)
4ইনপুট ভোল্টেজঃ 220V ± 10%, 50-60Hz
5. সমাধান রূপান্তর হারঃ ≥ 95%, ব্যবহারের হার ঐতিহ্যগত দুই তরল চাপ nozzles তুলনায় কয়েকবার
6. atomized কণা আকারঃ গড় মান 15-45 μm হয়, প্রধানত নল ফ্রিকোয়েন্সি উপর নির্ভর করে। উচ্চতর ফ্রিকোয়েন্সি, কণা ছোট হয়
7. ডোজেল ফ্রিকোয়েন্সিঃ 30-200KHz থেকে একাধিক ডোজেল সিস্টেমের সাথে সজ্জিত করা যেতে পারে

সিলিকন ডাই অক্সাইড স্লারি অতিস্বনক দীর্ঘ নল গভীর BCT স্প্রে